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J-GLOBAL ID：201202286515277534   整理番号：12A1737849

新マスクパターン検査装置NPI-7000の開発とEUVマスク検査への適用結果

Development of a new mask pattern inspection tool NPI-7000, and applied results to EUV mask inspection

著者 (5件)： HASHIMOTO Hideaki (Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN) ,  KIKUIRI Nobutaka (Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN) ,  ISOMURA Ikunao (Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN) ,  ISOBE Manabu (Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN) ,  MUSASHI Noriaki (Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8441  ページ： 844117.1-844117.9  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 次世代のリソグラフィー検査(1xnmハーフピッチノード)は光学的なリソグラフィー技術を使用すると技術的にもまた物理的にも難しくなってくる。本論文ではDUV(199nm)を使用した新検査装置NPI-7000の概要を述べる。検査ツールとして適正および有効な超分解能を提供するために,最適な照射タイプと条件を選択した。本装置は次世代光学マスクおよびEUVマスクパターンに対して最も資格を満たした欠陥検出感度を実証する。従来のNPI-6000に比べてNPI-7000の改良点は以下のとおりである。(1)機械的に再設計したスキャナーの採用,(2)高感度および広い測定領域を持った新しい時間遅延積分(TDI)センサーの採用,(3)従来の円偏光照射に加えてP偏光1照射とS偏光照射の採用,またEUVマスク検査に対してはP偏光およびS偏光による反射同時検査モードの採用,(4)データ処理能力を2倍以上とし,その結果70nmピクセルサイズに対して120minとしたことである。

シソーラス用語： *フォトマスク ,  *パターン形成 ,  *欠陥検査 ,  *フォトリソグラフィー ,  位相シフト ,  半導体レーザ ,  露光 ,  高分解能 ,  ピッチ【機械要素】 ,  コントラスト ,  画像強調 ,  スループット ,  円偏光 ,  走査装置 ,  高感度 ,  光照射
準シソーラス用語： EUVリソグラフィー ,  EUVマスク ,  位相シフトマスク ,  ナノレーザ

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (6件)： マスクパターン ,  検査装置 ,  NPI ,  開発 ,  EUVマスク ,  検査