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J-GLOBAL ID:201202293317127329   整理番号:12A0591388

GaN基板上高耐圧GaN pn接合ダイオード

High Breakdown GaN p-n Junction Diode on Free-Standing GaN Substrates
著者 (7件):
資料名:
巻: EDD-12  号: 30-31.33-41  ページ: 21-23  発行年: 2012年03月07日 
JST資料番号: Z0910A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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GaNはワイドバンドギャップ材料で高い絶縁破壊強度,高い飽和ドリフト速度と良好な熱伝導度を持つ。GaN系素子はサファイア・Si・SiC等の異種基板上に構成されるが,基板とエピタキシャル層感に大きな格子不整合,熱膨張係数の違いでGaNエピタキシャル層中に多くの結晶欠陥を生じさせる。これら欠陥は主に109/cm2以上の高密度貫通転位から成り漏れ電流を増大させる一因である。このため動作電圧向上とオン抵抗低減が必要で,高電圧光電流動作のためにエピタキシャル層内の結晶欠陥低減が必要である。ここでは,106/cm2程度の貫通転位密度を有するGaN基板上に電極面積の異なるPN接合ダイオードを作製し,耐圧実現を検討した。
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ダイオード 
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