特許
J-GLOBAL ID：201203000479820466
光学部品の製造方法及び光学部品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 石田 悟
, 寺澤 正太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-109689
公開番号（公開出願番号）：特開2012-242450
出願日： 2011年05月16日
公開日（公表日）： 2012年12月10日
要約：
【課題】基板面に対して大きく傾斜した(或いは垂直に近い)半透過反射面に酸化シリコン膜を均一に形成し得る光学部品の製造方法、並びにこの方法により製造された光学部品を提供する。【解決手段】光透過性光学部品12を製造する方法であって、板状部材のシリコン領域11をエッチングして凹部を形成する第1のエッチング工程と、凹部の内側面を熱酸化させて酸化シリコン膜14を形成する熱酸化工程と、酸化シリコン膜14を覆う窒化シリコン膜16を形成する窒化膜形成工程とを含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
シリコン領域を含む板状部材の前記シリコン領域をエッチングして凹部を形成する第1のエッチング工程と、
前記凹部の内側面を熱酸化させて酸化シリコン膜を形成する熱酸化工程と、
前記酸化シリコン膜を覆う窒化シリコン膜を形成する窒化膜形成工程と
を含むことを特徴とする、光学部品の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/10
, B81C 1/00
, G02B 26/06
G02B5/10 B
, B81C1/00
, G02B26/06
2H042DA01
, 2H042DA12
, 2H042DA15
, 2H042DA22
, 2H042DC02
, 2H141MA27
, 2H141MB23
, 2H141MC07
, 2H141MD02
, 2H141ME01
, 2H141ME09
, 2H141ME11
, 2H141MF25
, 2H141MZ18
, 2H141MZ22
, 2H141MZ26
, 3C081AA17
, 3C081BA04
, 3C081BA07
, 3C081BA28
, 3C081BA44
, 3C081BA48
, 3C081BA53
, 3C081CA02
, 3C081CA14
, 3C081CA15
, 3C081CA26
, 3C081CA29
, 3C081DA03
, 3C081DA05
, 3C081EA07
