特許
J-GLOBAL ID：201203004207695366
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-033542
公開番号（公開出願番号）：特開2012-190008
出願日： 2012年02月20日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：
【課題】優れた露光マージン及びマスクエラーファクターを有し、且つ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、酸発生剤、式(II1)又は式(II2)で表される化合物を含有するレジスト組成物。[式中、R1は、水素原子又はメチル基;A1はアルカンジイル基;R2はフッ素原子含有炭化水素基;R6は、アルキル基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、;X1は、単結合又はアルカンジイル基;X2は、-O-又は-N(Rd)-、を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、
(B)酸発生剤、並びに
(D)式(II1)で表される化合物及び式(II2)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有するレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H125AE06P
, 2H125AE07P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM22P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN50P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125AN68P
, 2H125AN71P
, 2H125AN73P
, 2H125AN82P
, 2H125AN86P
, 2H125AN88P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
