特許
J-GLOBAL ID：201203026700209261
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-083474
公開番号（公開出願番号）：特開2012-226335
出願日： 2012年04月02日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：
【課題】優れた露光マージン及びマスクエラーファクターを有し、且つ欠陥の発生が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)酸発生剤並びに(D)式(II1)で表される化合物及び式(II2)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有するレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、
(B)酸発生剤、並びに、
(D)式(II1)で表される化合物及び式(II2)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有するレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 220/28
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
, C08F220/28
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ69X
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM22P
, 2H125AM23P
, 2H125AM99P
, 2H125AN11P
, 2H125AN30P
, 2H125AN32P
, 2H125AN33P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN50P
, 2H125AN54P
, 2H125AN61P
, 2H125AN68P
, 2H125AN71P
, 2H125AN82P
, 2H125AN86P
, 2H125AN88P
, 2H125AN89P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA10Q
, 4J100BA20P
, 4J100BB18P
, 4J100BC09Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100JA38
