特許

J-GLOBAL ID：201203004330012621

プラズマ処理装置または試料載置台

発明者： 渡辺 智行 ,  薬師寺 守 ,  大本 豊
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-129522
公開番号（公開出願番号）：特開2011-258614
出願日： 2010年06月07日
公開日（公表日）： 2011年12月22日
要約：

【課題】ウエハの温度の変化を高速化し温度の調節の精度を向上して処理の効率を向上できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空容器内部の処理室内に配置された試料台上にウエハを載置して前記処理室内に形成したプラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理装置であって、前記試料台の内部に配置された金属製の基材と、この基材上面に配置され溶射により形成された誘電体製の膜と、前記誘電体製の膜内部に配置され溶射で形成された膜状のヒータと、前記誘電体膜上に配置された接着層と、前記接着層によって前記誘電体膜に貼り付けられた厚さ0.2〜0.4mmのセラミック製の焼結板と、前記基材内部に配置され温度を検知するセンサと、このセンサからの出力を受けて前記ヒータの発熱を調節する制御部とを備えた。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

真空容器内部の処理室内に配置された試料台上にウエハを載置して前記処理室内に形成したプラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理装置であって、 前記試料台の内部に配置された金属製の基材と、この基材上面に配置され溶射により形成された誘電体製の膜と、前記誘電体製の膜内部に配置され溶射で形成された膜状のヒータと、前記誘電体膜上に配置された接着層と、前記接着層によって前記誘電体膜に貼り付けられた厚さ0.2〜0.4mmのセラミック製の焼結板と、前記基材内部に配置され温度を検知するセンサと、このセンサからの出力を受けて前記ヒータの発熱を調節する制御部とを備えたプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/683 ,  H05H 1/46 ,  H05B 3/74 ,  H05B 3/00

FI (6件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/68 R ,  H05H1/46 C ,  H05H1/46 A ,  H05B3/74 ,  H05B3/00 310E

Fターム (43件)：

3K058AA02 ,  3K058AA42 ,  3K058AA73 ,  3K058AA86 ,  3K058BA19 ,  3K058CA23 ,  3K058CA69 ,  3K058CE02 ,  3K058CE13 ,  3K058CE19 ,  3K092PP09 ,  3K092QA05 ,  3K092QB02 ,  3K092QB31 ,  3K092QB77 ,  3K092RF02 ,  3K092RF11 ,  3K092RF17 ,  3K092RF27 ,  3K092UA05 ,  3K092VV16 ,  3K092VV22 ,  5F004AA01 ,  5F004BA14 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BC08 ,  5F004CA04 ,  5F031CA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA16 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031JA46 ,  5F031JA51 ,  5F031NA05 ,  5F031PA11 ,  5F031PA23

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-143175   出願人：住友大阪セメント株式会社
• ヒータ内蔵静電チャックを備えたプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-004414   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• ウエハステージ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-049921   出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ