ウエハステージ

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-049921
公開番号（公開出願番号）：特開2003-249541
出願日： 2002年02月26日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：

【要約】【課題】広い温度範囲でウエハの温度分布を均一に保つことができるウエハステージを提供する。【解決手段】冷却液循環路46を内蔵した液冷ジャケット14並びにヒータ16及び静電チャック用の電極17を内蔵し且つ前記液冷ジャケット14上に取り付けられたセラミック板15からなり、該セラミック板15上にウエハ1を載置してウエハ処理を行うウエハ処理装置用のウエハステージ2であって、前記液冷ジャケット14は該液冷ジャケット14上に形成した冷却ガス循環用ギャップ38を介して前記セラミック板15を取り付けると共に、前記液冷ジャケット14と前記セラミック板15間には前記冷却ガスを封止するための弾性体を内蔵した耐熱性のシール材31,33を配置した。

請求項（抜粋）：

冷却液循環路を内蔵した液冷ジャケット並びにヒータ及び静電チャック用の電極を内蔵し且つ前記液冷ジャケット上に取り付けられたセラミック板からなり、該セラミック板上にウエハを載置してウエハ処理を行うウエハ処理装置用のウエハステージであって、前記液冷ジャケットは該液冷ジャケット上に形成した冷却ガス循環用ギャップを介して前記セラミック板を取り付けると共に、前記液冷ジャケットと前記セラミック板間には前記冷却ガスを封止するための弾性体を内蔵した耐熱性のシール材を配置したことを特徴とするウエハステージ。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , H01L 21/02 , H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/68 N , H01L 21/68 R , H01L 21/02 Z , H01L 21/302 101 G

Fターム (22件)：

5F004BA20 , 5F004BB22 , 5F004BB25 , 5F004BB26 , 5F004CA04 , 5F004DB13 , 5F031CA02 , 5F031HA02 , 5F031HA03 , 5F031HA19 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA39 , 5F031HA58 , 5F031JA01 , 5F031JA21 , 5F031JA46 , 5F031MA32 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031PA30

引用特許：

審査官引用 (10件)

電極構造、載置台構造、プラズマ処理装置及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-168297 出願人：東京エレクトロン株式会社
ウエハ保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-035360 出願人：株式会社日立製作所
半導体製造・検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-136199 出願人：イビデン株式会社

全件表示

前のページに戻る