特許

J-GLOBAL ID：201203010247084734

シリカ容器

発明者： 山形 茂 ,  笛吹 友美
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-174615
公開番号（公開出願番号）：特開2012-211082
出願日： 2012年08月07日
公開日（公表日）： 2012年11月01日
要約：

【課題】 大型、高寸法精度、高耐久性の、シリカを主な構成成分とするシリカ容器を、安価な比較的低品位のシリカ粉体を主原料として、投入エネルギー量を少なく、低コストで製造するためのシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。【解決手段】 シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ基体を形成し、該シリカ基体の内表面上に、シリカゾルからゾル-ゲル法によって透明シリカガラス層を形成するシリカ容器の製造方法。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

回転対称性を有するシリカ容器であって、少なくとも、 気泡を含有し、白色不透明であり、かさ密度が1.90〜2.15g/cm3であり、シリカ純度が99.9〜99.999wt.%であり、Alを5〜500wt.ppmの元素濃度で含有し、OH基を1〜100wt.ppmの濃度で含有し、Li、Na、Kの各元素濃度が30wt.ppm以下であるものであり、不透明シリカ層からなるシリカ基体を有し、 該シリカ基体の内側に、実質的に気泡を含有せず、無色透明であり、かさ密度が2.18〜2.21g/cm3であり、Cを10〜1000wt.ppmの元素濃度で含有し、OH基を1〜200wt.ppmの濃度で含有する透明シリカガラス層を有するものであることを特徴とするシリカ容器。

IPC (3件)：

C03B 20/00 ,  C30B 15/10 ,  C30B 29/06

FI (3件)：

C03B20/00 H ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 502B

Fターム (8件)：

4G014AH00 ,  4G077AA02 ,  4G077BA04 ,  4G077CF10 ,  4G077EG02 ,  4G077HA12 ,  4G077PD01 ,  4G077PD05

引用特許：

出願人引用 (4件)

• シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-079032   出願人：信越石英株式会社
• シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-093861   出願人：信越石英株式会社
• バリウムドープされた内壁を有するシリカガラスるつぼ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-241832   出願人：ヘリーアスシンエツアメリカインク, 信越石英株式会社
• 石英ガラスルツボの表面改質方法と表面改質ルツボ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-157232   出願人：ジャパンスーパークォーツ株式会社