特許
J-GLOBAL ID：201203016193625376

ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物及びパターン形成方法

発明者：
山口 佳一

山口 佳一 について

, 
岡本 匡史

岡本 匡史 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-079981
公開番号（公開出願番号）：特開2012-216627
出願日： 2011年03月31日
公開日（公表日）： 2012年11月08日
要約：
【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。【解決手段】 (A)重合性化合物と、(B)25°C、1atmの条件下においてASTM-D3539に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を1としたとき1〜15の範囲内にある有機溶媒とを含有し、(A)成分100重量部に対して(B)成分を0.01〜10重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
(A)重合性化合物と、(B)25°C、1atmの条件下においてASTM-D3539に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を1としたとき1〜15の範囲内にある有機溶媒とを含有し、(A)成分100重量部に対して(B)成分を0.01〜10重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  C08F 220/18 ,  B29C 59/02
FI (3件)：
H01L21/30 502D ,  C08F220/18 ,  B29C59/02 Z
Fターム (21件)：
4F209AA44 ,  4F209AB04 ,  4F209AF01 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AH79 ,  4F209PA02 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4J100AL08R ,  4J100AL62P ,  4J100AL66Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC07R ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100JA38 ,  5F146AA31 ,  5F146AA33
引用特許：
審査官引用 (5件)
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