特許
J-GLOBAL ID:201203020758544704
レーザー光線照射機構およびレーザー加工装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-023830
公開番号(公開出願番号):特開2012-161812
出願日: 2011年02月07日
公開日(公表日): 2012年08月30日
要約:
【課題】レーザー光線発信器から発振されたレーザー光線の出力を高速制御することができるレーザー光線照射機構およびレーザー加工装置を提供する。【解決手段】レーザー光線発振器と集光レンズとの間に配設された出力調整手段63とを具備するレーザー光線照射機構であって、出力調整手段は、1/2波長板と、直線偏光のレーザー光線を入光してS偏光成分を反射させP偏光成分を透過せしめる第1の偏光ビームスプリッター面および第2の偏光ビームスプリッター面を備えたプリズム632と、S偏光成分とP偏光成分との間に位相差(α)を生成する光路長調整手段633と、偏光成分合成手段636と、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線を分光する偏光ビームスプリッター面を備え、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線のS偏光成分とP偏光成分との位相差(α+β)を0度から180度の間で制御する制御手段とを具備している。【選択図】図2
請求項(抜粋):
レーザー光線を発振するレーザー光線発振器と、該レーザー光線発振器から発振されたレーザー光線を集光して照射する集光レンズと、該レーザー光線発振器と該集光レンズとの間に配設され該レーザー光線発振器から発振されたレーザー光線の出力を調整する出力調整手段と、を具備するレーザー光線照射機構であって、
該出力調整手段は、該レーザー光線発振器から発振された直線偏光のレーザー光線の偏光面を45度回転する1/2波長板と、
該1/2波長板によって偏光面が45度回転せしめられたレーザー光線を入光してS偏光成分を反射させP偏光成分を透過せしめる第1の偏光ビームスプリッター面および第2の偏光ビームスプリッター面を備えたプリズムと、
該第1の偏光ビームスプリッター面と対向して配設され該第1の偏光ビームスプリッター面を透過したレーザー光線のP偏光成分を反射するミラー面を備えた第1のミラーと、該第1のミラーに装着され印加する電圧に対応して該第1のミラーのミラー面と該第1の偏光ビームスプリッター面との間隔を調整するピエゾアクチュエータとを備え、該第1の偏光ビームスプリッター面で反射したレーザー光線のS偏光成分と該第1のミラーのミラー面で反射したP偏光成分との間に位相差(α)を生成する光路長調整手段と、
該第2の偏光ビームスプリッター面と対向して所定の間隔をもって配設され該第1のミラーのミラー面で反射し該第2の偏光ビームスプリッター面を透過したP偏光成分を反射するミラー面を備えた第2のミラーを備え、該第1の偏光ビームスプリッター面で反射するとともに該第2の偏光ビームスプリッター面で反射したS偏光成分と該第2の偏光ビームスプリッター面を透過し該第2のミラーのミラー面で反射したP偏光成分との間に位相差(β)を生成する偏光成分合成手段と、
該偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線を分光する偏光ビームスプリッター面を備え、該偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線の一部または全部を該集光レンズに導き、該偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線の全部または一部をビームダンパーに導く分光手段と、
該光路長調整手段の該ピエゾアクチュエータに印加する電圧を制御し、該第1のミラーのミラー面と該第1の偏光ビームスプリッター面との間隔を調整することにより該偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線のS偏光成分とP偏光成分との位相差(α+β)を0度から180度の間で制御する制御手段と、を具備している、
ことを特徴とするレーザー光線照射機構。
IPC (8件):
B23K 26/00
, B23K 26/067
, B23K 26/06
, B23K 26/073
, H01S 3/00
, G02B 26/06
, G02B 27/28
, H01S 3/10
FI (9件):
B23K26/00 N
, B23K26/067
, B23K26/06 Z
, B23K26/073
, B23K26/06 G
, H01S3/00 B
, G02B26/06
, G02B27/28 Z
, H01S3/10 Z
Fターム (27件):
2H141MA27
, 2H141MB23
, 2H141MC09
, 2H141MD01
, 2H141ME01
, 2H141ME09
, 2H141ME11
, 2H141ME18
, 2H141ME19
, 2H141ME25
, 2H141MF01
, 2H141MG05
, 2H199AB01
, 2H199AB37
, 2H199AB42
, 2H199AB48
, 2H199AB70
, 4E068AD00
, 4E068AE00
, 4E068CA02
, 4E068CD02
, 4E068CD03
, 4E068CD05
, 4E068CD09
, 4E068CD12
, 4E068DA10
, 5F172ZZ01
引用特許:
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る