特許
J-GLOBAL ID：200903070244712707

超短パルスレーザ加工法及び加工装置並びに構造体

発明者：
瀬尾 学

瀬尾 学 について

, 
山田 泰史

山田 泰史 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 園田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-183498
公開番号（公開出願番号）：特開2005-014059
出願日： 2003年06月26日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：
【課題】微細な形状、特に微細な立体形状を多様に作製することが可能な超短パルスレーザ加工法および、前記加工法を用いた加工装置および前記加工装置によって作製された立体形状を有する光学素子(構造体)を提供すること。【解決手段】500ピコ秒以下の時間幅を持つ単一のパルスレーザ光を複数のパルスレーザ光に分け、それぞれのパルスレーザ光に対して時間遅延を発生させる分割・遅延光学系と、前記分割した複数のパルスレーザ光それぞれに関して、加工面照射形状、強度分布および加工面照射位置を調整するためのビーム整形光学系およびビーム伝播光学系を備え、それぞれのパルスレーザ光の加工面照射形状を一部あるいは完全に空間的に重ねて被照射物の加工を行うレーザ加工方法において、それぞれのパルスが加工面照射される時間をパルス幅乃至1ナノ秒の間隔としたこと。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
500ピコ秒以下の時間幅を持つ単一のパルスレーザ光を複数のパルスレーザ光に分け、それぞれのパルスレーザ光に対して時間遅延を発生させる分割・遅延光学系と、前記分割した複数のパルスレーザ光それぞれに関して、加工面照射形状、強度分布および加工面照射位置を調整するためのビーム整形光学系およびビーム伝播光学系を備え、それぞれのパルスレーザ光の加工面照射形状を一部空間的に重ねてあるいは完全に同位置に重ねて被照射物の加工を行うレーザ加工方法において、 それぞれのパルスが加工面に照射される時間をパルス幅乃至1ナノ秒の間隔とすることを特徴とするレーザ加工法。
IPC (1件)：
B23K26/06
FI (2件)：
B23K26/06 C ,  B23K26/06 A
Fターム (12件)：
4E068CA01 ,  4E068CA03 ,  4E068CA08 ,  4E068CB08 ,  4E068CD01 ,  4E068CD03 ,  4E068CD05 ,  4E068CD07 ,  4E068CD08 ,  4E068CD10 ,  4E068DA00 ,  4E068DB00
引用特許：
審査官引用 (5件)
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