特許
J-GLOBAL ID：201203024951728435
荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-228714
公開番号（公開出願番号）：特開2012-084659
出願日： 2010年10月08日
公開日（公表日）： 2012年04月26日
要約：
【課題】多重描画する場合の描画時間の低減できる荷電粒子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】描画装置100は、レイアウトデータに定義される図形を荷電粒子ビームの1回のショットで照射可能なサイズの複数のショット図形に分割するショット分割部62と、多重描画の多重度がショット図形毎に可変になるように、ショット図形毎に、多重回数分の当該ショット図形の各ショットデータを生成するショットデータ生成部79と、荷電粒子ビームを用いて、当該ショット図形用に生成された各ショットデータの回数に沿って、試料に当該ショット図形を重ねて描画する描画部150を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レイアウトデータに定義される図形を荷電粒子ビームの1回のショットで照射可能なサイズの複数のショット図形に分割するショット分割部と、
多重描画の多重度がショット図形毎に可変になるように、前記ショット図形毎に、多重回数分の当該ショット図形の各ショットデータを生成するショットデータ生成部と、
荷電粒子ビームを用いて、当該ショット図形用に生成された各ショットデータの回数に沿って、試料に当該ショット図形を重ねて描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
5F056AA04
, 5F056AA13
, 5F056CA02
, 5F056CB03
, 5F056CC12
, 5F056CC13
, 5F056CC16
, 5F056CD06
, 5F056CD15
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示
前のページに戻る
