特許
J-GLOBAL ID：201203029441866231
マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法および反射型マスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
, 福岡 昌浩
, 奥山 知洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-208542
公開番号（公開出願番号）：特開2012-091315
出願日： 2011年09月26日
公開日（公表日）： 2012年05月17日
要約：
【課題】矩形状の基板の両主表面を研削する場合に、研削後の基板の主表面形状を良好にし、かつ、当該研削を行う定盤の平坦度低下を抑制できるようにする。【解決手段】両面研削装置の回転する上下両定盤3,4の研削面間にキャリアで保持された矩形状の基板20を挟持して前記基板20の両主表面を研削する研削工程において、前記キャリアは、1枚の基板20を保持する基板保持部17を備える内側キャリア16と、前記内側キャリア16を回動自在に保持するキャリア保持部15を複数有する外側キャリア13とからなり、前記研削工程は、前記外側キャリア13を前記定盤3,4の回転軸を中心に公転かつ自転させ、前記基板20の両主表面の一部領域が前記定盤3,4の外周端部よりも外周側を通過させて前記基板20の両主表面を研削する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
両面研削装置の回転する上下両定盤の研削面間にキャリアで保持された矩形状の基板を挟持し、前記基板の両主表面を研削する研削工程を備えるマスクブランク用基板の製造方法であって、
前記キャリアは、
1枚の基板を保持する基板保持部を備える内側キャリアと、
前記内側キャリアを回動自在に保持するキャリア保持部を複数有する外側キャリアとからなり、
前記研削工程は、前記外側キャリアを前記定盤の回転軸を中心に公転かつ自転させ、前記基板の両主表面の一部領域が前記定盤の外周端部よりも外周側を通過させて前記基板の両主表面を研削するものである
ことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
IPC (6件)：
B24B 37/08
, G03F 1/22
, G03F 1/60
, B24B 37/28
, B24B 37/12
, C03C 19/00
B24B37/04 F
, G03F1/16 A
, G03F1/14 A
, B24B37/04 U
, B24B37/04 X
, C03C19/00 Z
2H095BC28
, 3C058AA07
, 3C058AA18
, 3C058AB01
, 3C058AB04
, 3C058AB06
, 3C058AB08
, 3C058CA01
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058DA06
, 3C058DA09
, 3C058DA18
, 4G059AA08
, 4G059AC03
