特許
J-GLOBAL ID：200903031420042360
マスクブランクス用ガラス基板及びその製造方法、マスクブランクスの製造方法、並びに露光用マスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-048929
公開番号（公開出願番号）：特開2005-275388
出願日： 2005年02月24日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】シリカを用いてガラス基板の鏡面研磨を行っても基板表面に微小な凸状の表面欠陥が発生するのを抑えたマスクブランクス用ガラス基板及びその製造方法、該基板を用いたマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面の微小な凸状の表面欠陥に起因する位相欠陥を生じない露光用マスクの製造方法を提供する。【解決手段】シリカを含むスラリーを用いて主表面が鏡面に研磨されたガラス基板であって、前記シリカがガラス基板主表面上に付着することにより形成されたSiとOとを含む突起の高さが、このガラス基板を用いて作製した露光用マスクを使用したときに位相欠陥を生じない高さとなっている。このガラス基板は、突起の高さが上記位相欠陥を生じない高さとなるように、スラリー中のシリカの含有量を調整することにより得られる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリカを含むスラリーを用いて主表面が鏡面に研磨されたガラス基板であって、前記シリカがガラス基板主表面上に付着することにより形成されたSi(珪素)とO(酸素)とを含む突起の高さが、このガラス基板を用いて露光用マスクを作製し、この露光用マスクを使用したときに位相欠陥を生じない高さであることを特徴とするマスクブランクス用ガラス基板。
IPC (4件)：
G03F1/08
, B24B37/00
, C03C19/00
, H01L21/027
G03F1/08 A
, B24B37/00 H
, C03C19/00 Z
, H01L21/30 502P
2H095BB01
, 2H095BC27
, 3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA01
, 3C058CB02
, 4G059AA11
, 4G059AB03
, 4G059AB19
, 4G059AC03
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (10件)
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