プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-037213
公開番号（公開出願番号）：特開2012-174978
出願日： 2011年02月23日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：

【課題】ステージ温度変化など運用条件の変更に対応し、突入電流の発生や過剰なESC電流が流れることを防ぎ、なおかつ伝熱用ガスを導入する時点で裏面圧力以上の静電吸着力を発生させる。【解決手段】被処理基板をプラズマ処理するための処理室と、該処理室内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、処理室内に設けられ被処理基板を保持する静電吸着膜を備えたステージを具備したプラズマ処理装置において、静電吸着膜と被処理基板間に流れるESC電流の電流値を検知し、ESC電流の値で吸着条件を設定し、ESC電流が設定した制御範囲内に収まるようにESC電流を検知しながら吸着電圧を段階的にステージに印加し、ESC電流が制御範囲内に収まったことを検知した後に伝熱用ガスを導入する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

処理室と、該処理室内に設けられ、試料を載置する試料台と、静電吸着膜を介して前記試料を試料台表面に吸着させるための直流電圧を前記試料台に印加する直流電源とを備え、前記試料をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、前記静電吸着膜を介して前記試料台と前記試料間に流れる電流を測定する電流測定手段と、前記電流測定手段により測定された電流値が予め設定された範囲内に収まるまで段階的に前記直流電圧を前記試料台に印加するように直流電源を制御する電圧制御手段と、前記測定された電流値が予め設定された範囲に到達した時点で、前記試料台内部に設けられた溝に流される前記試料の温度調整用の冷媒の温度を前記試料に伝熱し、前記試料と前記静電吸着膜に設けられた溝との間に供給される伝熱用ガスを前記試料と前記溝との間に供給開始する制御部とを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 , H01L 21/31 , H01L 21/683

FI (5件)：

H01L21/302 101G , H01L21/302 101C , H01L21/302 101R , H01L21/31 C , H01L21/68 R

Fターム (21件)：

5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB18 , 5F004BB22 , 5F004BC08 , 5F004CA02 , 5F004CA03 , 5F004CA07 , 5F004CB20 , 5F004DA04 , 5F004DA11 , 5F031CA02 , 5F031HA19 , 5F031HA40 , 5F031JA45 , 5F031JA51 , 5F045AA08 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EH11 , 5F045EM05

引用特許：

出願人引用 (3件)

静電吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-061865 出願人：株式会社日立製作所
静電吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-285959 出願人：株式会社日立製作所
静電チャック及びその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-124143 出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (3件)

静電吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-061865 出願人：株式会社日立製作所
静電吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-285959 出願人：株式会社日立製作所
静電チャック及びその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-124143 出願人：ソニー株式会社

前のページに戻る