特許
J-GLOBAL ID：201203031971156590

試料を検査するための装置、特に顕微鏡

発明者：
ケンペ、ミヒャエル

ケンペ、ミヒャエル について

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クラムペルト、ゲルハルト

クラムペルト、ゲルハルト について

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クレッペ、インゴ

クレッペ、インゴ について

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ヴォレシェンスキー、ラルフ

ヴォレシェンスキー、ラルフ について


出願人/特許権者：
カール ツァイス マイクロイメージング ゲーエムベーハー

カール ツァイス マイクロイメージング ゲーエムベーハー について


代理人 (4件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠 ,  本田 淳 ,  池上 美穂
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-528230
公開番号（公開出願番号）：特表2012-504226
出願日： 2009年09月22日
公開日（公表日）： 2012年02月16日
要約：
回折限界の解像度を特徴とする装置、特に顕微鏡であり、異なる状態の間で切替可能な複数の色素分子(UF)で、少なくとも1つの状態が蛍光性であり、その蛍光が、対物レンズ(O)で集光され、光学系を用いて場所分解性検出器上に結像され、試料の少なくとも一部分が回折限界の解像度の逆数よりも大きな分布密度を有する、色素分子(UF)と、試料中のUFの第1部分集合を切り替えるために切替放射を発し、かつ、UFの第1部分集合を励起するために励起放射を発する1つまたは複数の光源とを備え、光路内に、好ましくは検出光路内に、少なくとも部分的に限定された放射極小値を有する光分布(PSF)を検出平面内に生成する位相マスクが設けられているか、または、検出平面内に、ベッセル分布(PSF)を生成するアキシコンが設けられているか、または、照明光路内に、照明分布をパターン化する手段が設けられているか、または、照明光路内に、照明分布をパターン化する手段が設けられているか、または、検出光路内に、試料光をスペクトル分割する手段が設けられているか、または、検出のために、位置感受性センサ(psd)から成るセンサアレイが設けられているか、または、検出光路内に、色依存の光分布(PSF)を検出平面内に生じさせる手段が設けられているか、または、瞳内にまたはその近傍に、アクロマチックビームスプリッタが配置されている。
請求項（抜粋）：
回折限界の解像度を特徴とする装置、特に顕微鏡であって、 異なる状態の間で切替可能な複数の色素分子(UF)で、少なくとも1つの状態が蛍光性であり、その蛍光が、対物レンズ(O)で集光され、光学系を用いて場所分解性検出器上に結像され、試料の少なくとも一部分が回折限界の解像度の逆数よりも大きな分布密度を有する、色素分子(UF)と、 該試料中の該UFの第1部分集合を切り替えるために切替放射を発し、かつ、該UFの第1部分集合を励起するために励起放射を発する1つまたは複数の光源とを備え、 光路内に、好ましくは検出光路内に、少なくとも部分的に制限された放射極小値を有する光分布(PSF)を検出平面内に生成する位相マスクが設けられている、装置。
IPC (2件)：
G01N 21/64 ,  G02B 21/00
FI (3件)：
G01N21/64 E ,  G01N21/64 F ,  G02B21/00
Fターム (20件)：
2G043EA01 ,  2G043FA02 ,  2G043FA06 ,  2G043GA01 ,  2G043GB01 ,  2G043HA01 ,  2G043HA09 ,  2G043HA15 ,  2G043JA02 ,  2G043JA04 ,  2G043JA05 ,  2G043LA03 ,  2H052AA03 ,  2H052AA09 ,  2H052AB24 ,  2H052AC04 ,  2H052AC10 ,  2H052AC27 ,  2H052AD34 ,  2H052AF14
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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