特許
J-GLOBAL ID：201203040565347341

ガスバリアフィルム及びその製造方法

発明者：
西尾 昌二

西尾 昌二 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-257661
公開番号（公開出願番号）：特開2012-106433
出願日： 2010年11月18日
公開日（公表日）： 2012年06月07日
要約：
【課題】低温で且つ迅速にSiO2系セラミックス膜を形成する方法により、効率良くガスバリアフィルムを得て、最終的に得られるセラミックス膜のガスバリア性、耐傷性等の膜特性を向上したガスバリアフィルム及びその製造方法を提供する。【解決手段】ポリ珪素化合物を含有する塗工液をプラスチックフィルム支持体に塗布した後、該塗布されたポリ珪素化合物をVUV光によりセラミックに転化させたガスバリアフィルムであって、該ポリ珪素化合物の下記数式で定義する分散度が、3.00以上20.00以下であることを特徴とするガスバリアフィルム及びその製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ポリ珪素化合物を含有する塗工液をプラスチックフィルム支持体に塗布した後、該塗布されたポリ珪素化合物をVUV光によりセラミックに転化させたガスバリアフィルムであって、該ポリ珪素化合物の下記数式で定義する分散度が、3.00以上20.00以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 分散度=重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn
IPC (3件)：
B32B 18/00 ,  B32B 37/00 ,  C01B 33/12
FI (3件)：
B32B18/00 C ,  B32B31/28 ,  C01B33/12 C
Fターム (26件)：
4F100AD00B ,  4F100AK01A ,  4F100AK41 ,  4F100AK52B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100EH46B ,  4F100EJ54B ,  4F100JA07B ,  4F100JD02 ,  4F100YY00B ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072HH30 ,  4G072HH33 ,  4G072LL02 ,  4G072LL05 ,  4G072LL13 ,  4G072MM31 ,  4G072NN21 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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