特許
J-GLOBAL ID：201203045994269008

デバイス製造装置および方法

発明者：
原 史朗

原 史朗 について

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原市 聡

原市 聡 について

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石橋 晃

石橋 晃 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-195996
公開番号（公開出願番号）：特開2012-054414
出願日： 2010年09月01日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：
【課題】デバイス製造の変種変量生産に柔軟に対応すること。【解決手段】0.5インチサイズのウェハによる枚葉処理方式でのデバイス製造方法及び装置であって、可搬とされ、望ましくは規格化された外形を有し、製造プロセスの内の1つの処理プロセスを処理する密閉型の単位処理装置1を多数配置して製造ラインを形成し、当該デバイスの製造単位数が単位処理装置の数より多い場合には、当該デバイスの処理プロセスの順序に対応させて該単位処理装置をフローショップ方式により配置し、当該デバイスの製造単位数が単位処理装置の数と同等の場合には、該単位処理装置を工程の順序の大分類ごとにクラス分け配置したクラスショップ方式により配置し、さらに製造単位数が工程数を大きく下回る場合には、プロセス種1種類に1台程度の単位製造装置を1つのセル内に配置し、そのセルが複数で構成されるマルチセルショップ方式により配置する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
デバイス製造プロセスの内の単一の処理プロセスを処理する密閉型の複数の単位処理装置と、ワーク対象のウェハを1枚収納する密閉搬送容器と、前記単位処理装置毎に設けられ、前記ウェハを前記単位処理装置と前記密閉搬送容器との間で受け渡すためのウェハ入出前室と、前記ウェハ入出前室の間で前記密閉搬送容器を搬送する搬送手段と、を有するデバイス製造装置であって、 前記密閉搬送容器に収納される前記ウェハは、極小単位のデバイスを作製するウェハサイズであり、前記複数の単位処理装置は、可搬とされており、 前記複数の単位処理装置は、当該デバイスの処理プロセスの順序に対応させて配置するフローショップ方式により配置するが、当該デバイスの製造単位数が前記単位処理装置の数と同等の場合には、該単位処理装置を処理プロセスの順序の大分類ごとにクラス分け配置したクラスショップ方式により配置し、さらに製造単位数が前記単位処理装置の数を前記同等より下回る場合には、プロセス種1種類に1台程度の単位処理装置を1つのセル内に配置し、前記セルが複数で構成されるマルチセルショップ方式により配置することを特徴とするデバイス製造装置。
IPC (3件)：
H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/677
FI (5件)：
H01L21/02 Z ,  H01L21/30 502G ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 562 ,  H01L21/02 D
Fターム (9件)：
5F031CA02 ,  5F031DA12 ,  5F031FA03 ,  5F031FA11 ,  5F031FA15 ,  5F031MA03 ,  5F031MA09 ,  5F031PA01 ,  5F046AA17
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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