感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高松猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-025505
公開番号（公開出願番号）：特開2012-032762
出願日： 2011年02月08日
公開日（公表日）： 2012年02月16日
要約：

【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。【解決手段】下記一般式(I)により表される繰り返し単位(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(B)とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。一般式(I)中、ARは、アリール基を表す。Rnは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。RnとARとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。 R1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)により表される繰り返し単位(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(B)とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 220/10 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , C08F220/10 , H01L21/30 502R

Fターム (107件)：

2H125AF15P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF27P , 2H125AF34P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AF52P , 2H125AF53P , 2H125AF54P , 2H125AF55P , 2H125AF70P , 2H125AH05 , 2H125AH06 , 2H125AH08 , 2H125AH12 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ04X , 2H125AJ04Y , 2H125AJ13Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ42X , 2H125AJ42Y , 2H125AJ44Y , 2H125AJ45Y , 2H125AJ47Y , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65X , 2H125AJ65Y , 2H125AJ69X , 2H125AJ85Y , 2H125AM66P , 2H125AM86P , 2H125AN11P , 2H125AN31P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN56P , 2H125AN62P , 2H125AN63P , 2H125AN65P , 2H125AN67P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AB02Q , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100BA02Q , 4J100BA02R , 4J100BA03P , 4J100BA11R , 4J100BA15R , 4J100BA15S , 4J100BA40R , 4J100BA46Q , 4J100BA50Q , 4J100BA56Q , 4J100BA56R , 4J100BA56S , 4J100BA57Q , 4J100BA58Q , 4J100BB07Q , 4J100BB07S , 4J100BB12Q , 4J100BB18Q , 4J100BC04R , 4J100BC36Q , 4J100BC43Q , 4J100BC43R , 4J100BC48R , 4J100BC49Q , 4J100BC53R , 4J100BC66Q , 4J100BD10Q , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA05 , 4J100DA39 , 4J100FA28 , 4J100FA30 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-186298 出願人：信越化学工業株式会社
ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-336124 出願人：信越化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-052758 出願人：富士フイルム株式会社

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