特許
J-GLOBAL ID：201203050022770371

バリア性フィルム、バリア性フィルムの製造方法及び有機電子デバイス

発明者：
▲高▼ 友香子

▲高▼ 友香子 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-162590
公開番号（公開出願番号）：特開2012-024933
出願日： 2010年07月20日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：
【課題】極めて高いバリア性能、折り曲げ耐性(フレキシブル性)、透明性及び平滑性に優れるバリア性フィルムを提供することであり、且つ、該バリア性フィルムを用いた有機電子デバイスを提供する。【解決手段】樹脂基材上に、少なくとも有機層及び2層以上の無機層が積層され、該無機層の少なくとも1層が最上層を形成しているバリア性フィルムであって、該2層以上の無機層は各々酸化珪素あるいは酸窒化珪素を少なくとも含有し、且つ、最上層に設けられている無機層AのESR法によるPbセンターのラジカル密度Aが、該無機層Aに隣接する下層の無機層Bのラジカル密度Bよりも小さいことを特徴とするバリア性フィルム。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
樹脂基材上に、構成層として少なくとも有機層及び2層以上の無機層が積層され、該無機層の少なくとも1層が最上層を形成しているバリア性フィルムであって、該2層以上の無機層は各々酸化珪素または酸窒化珪素を少なくとも含有し、且つ、最上層に設けられている無機層AのESR法によるPbセンターのラジカル密度Aが、該無機層Aに隣接する下層の無機中間層または前記2層以上の無機層の最下層の無機層Bのラジカル密度Bよりも小さいことを特徴とするバリア性フィルム。
IPC (4件)：
B32B 9/00 ,  H05B 33/02 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/04
FI (4件)：
B32B9/00 A ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/04
Fターム (39件)：
3K107AA01 ,  3K107CC05 ,  3K107CC21 ,  3K107CC23 ,  3K107CC43 ,  3K107DD16 ,  3K107DD17 ,  3K107DD18 ,  3K107DD19 ,  3K107EE45 ,  3K107EE48 ,  3K107EE49 ,  3K107EE50 ,  3K107FF13 ,  3K107FF14 ,  3K107FF17 ,  3K107GG06 ,  3K107GG28 ,  4F100AA00C ,  4F100AA00D ,  4F100AA00E ,  4F100AA12C ,  4F100AA12D ,  4F100AA20C ,  4F100AA20D ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK41 ,  4F100AK79E ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100EH46E ,  4F100JD02 ,  5F151BA18 ,  5F151JA03 ,  5F151JA05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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