特許
J-GLOBAL ID：201203053571343514

ガスバリア性フィルムの製造方法、および、ガスバリア性フィルム

発明者：
森 孝博

森 孝博 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-268123
公開番号（公開出願番号）：特開2012-116101
出願日： 2010年12月01日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
要約：
【課題】ロール・トゥー・ロール方式の生産適性を有し、ガスバリア性能に優れるガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】張力を印加されながら搬送される樹脂基材1上に、無機前駆体化合物を含む溶液を塗布して塗膜を作製し、該塗膜に対してエキシマランプ2を用いて真空紫外線を照射することにより改質処理して形成された、少なくとも1層のガスバリア性層を有するガスバリア性フィルムの製造方法において、前記エキシマランプの表面温度が150°C以下であり、前記エキシマランプ表面と前記樹脂基材との最短距離が10mm以下であって、前記樹脂基材の厚さをA(μm)、前記真空紫外線を照射時のm幅あたりの張力をB(N)としたときに、下式[1]を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。0.3≦B/A≦4.0・・・・[1]【選択図】図1
請求項（抜粋）：
張力を印加されながら搬送される樹脂基材上に、無機前駆体化合物を含む溶液を塗布して塗膜を作製し、該塗膜に対してエキシマランプを用いて真空紫外線を照射することにより改質処理して形成された、少なくとも1層のガスバリア性層を有するガスバリア性フィルムの製造方法において、 前記エキシマランプの表面温度が150°C以下であり、前記エキシマランプ表面と前記樹脂基材との最短距離が10mm以下であって、 前記樹脂基材の厚さをA(μm)、前記真空紫外線を照射時のm幅あたりの張力をB(N)としたときに、下式[1]を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 0.3≦B/A≦4.0・・・・[1]
IPC (3件)：
B32B 27/16 ,  B05D 5/06 ,  B32B 37/00
FI (3件)：
B32B27/16 ,  B05D5/06 104D ,  B32B31/28
Fターム (31件)：
3E067AB01 ,  3E067AB41 ,  3E067AB81 ,  3E067BA17A ,  3E067BB14A ,  3E067BB15A ,  3E067BB16A ,  3E067BB25A ,  3E067CA04 ,  3E067FC01 ,  4D075BB41Z ,  4D075BB44Z ,  4D075BB46Z ,  4D075CA42 ,  4D075DA04 ,  4D075DB31 ,  4D075DC21 ,  4D075EA05 ,  4D075EA21 ,  4D075EB42 ,  4F100AA01B ,  4F100AA20B ,  4F100AK01A ,  4F100AK52B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100CC10B ,  4F100EH46B ,  4F100EJ543 ,  4F100EJ593 ,  4F100JD02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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