特許
J-GLOBAL ID:201203053689864551
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-086143
公開番号(公開出願番号):特開2012-229206
出願日: 2012年04月05日
公開日(公表日): 2012年11月22日
要約:
【課題】レジスト組成物から製造されるレジストパターンの側壁部に凹凸が発生する現象、すなわち、パターンのラインエッジラフネス(LER)の点で、従来の塩を酸発生剤として含有するレジスト組成物は必ずしも十分に満足できるものではなかった。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。nは、0又は1を表す。L1は、単結合、炭素数1〜10のアルカンジイル基等を表す。環Wは、炭素数3〜36の脂肪族環等を表す。R1は、保護基により保護されたヒドロキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される塩。
IPC (7件):
C07C 309/17
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, C07C 381/12
, C09K 3/00
, C08F 220/38
, H01L 21/027
FI (7件):
C07C309/17
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, C07C381/12
, C09K3/00 K
, C08F220/38
, H01L21/30 502R
Fターム (34件):
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF21P
, 2H125AF26P
, 2H125AF38P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AL02
, 2H125AL03
, 2H125AL22
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB76
, 4H006AB92
, 4J100AL08P
, 4J100BC84P
引用特許:
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