特許
J-GLOBAL ID：201003055027044285

化学増幅型フォトレジスト組成物

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
杉原 昌子

杉原 昌子 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-069560
公開番号（公開出願番号）：特開2010-256873
出願日： 2010年03月25日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用により2個以上のカルボキシル基を生じ、酸の作用により水酸基を生じず、且つラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位(b1-1)を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、 前記樹脂が、酸の作用により2個以上のカルボキシル基を生じ、酸の作用により水酸基を生じず、且つラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位(b1-1)を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 ,  C07C 69/675 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  C07C69/675 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (48件)：
2H125AF17P ,  2H125AF37P ,  2H125AF38P ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ59X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ30 ,  4H006KA14 ,  4H006KA31 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20S ,  4J100BC04P ,  4J100BC07R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (5件)
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