特許
J-GLOBAL ID：201203055466778575

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

発明者：
浅野 裕介

浅野 裕介 について

, 
石井 岳史

石井 岳史 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (4件)： 山田 強 ,  廣田 美穂 ,  安藤 悟 ,  日野 京子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-276968
公開番号（公開出願番号）：特開2012-128009
出願日： 2010年12月13日
公開日（公表日）： 2012年07月05日
要約：
【課題】液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、現像不良による欠陥の発生を抑制でき、しかもリソグラフィ性能に優れたレジスト被膜を形成する。【解決手段】重合体成分を含有し、当該重合体成分中に、下記式(1)で表される繰り返し単位(a1)と、式(F1-1)、式(F1-2)及び式(F1-3)で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの繰り返し単位(f1)と、を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
重合体成分を含有し、 前記重合体成分中に、下記式(1)で表される繰り返し単位(a1)と、下記式(F1-1)、下記式(F1-2)及び下記式(F1-3)で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの繰り返し単位(f1)と、を有する感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28 ,  C08F 220/24
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28 ,  C08F220/24
Fターム (54件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AH05 ,  2H125AH11 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ55X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN62P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA12P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA28P ,  4J100BA34P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (5件)
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