特許

J-GLOBAL ID：201203055889157151

フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法

発明者： ヤン・チョル・ペ ,  ジョン・クン・パク ,  スン-ヒョン・リー ,  イ・リュー ,  トーマス・カルドラッシア ,  ローズマリー・ベル
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-039718
公開番号（公開出願番号）：特開2012-181524
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2012年09月20日
要約：

【課題】ネガティブトーン(negative tone)現像プロセスを用いて微細パターンの形成に有用なフォトレジスト組成物およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。【解決手段】下記一般式(I)、(II)および(III)の単位を含む第1のポリマー;下記一般式(IV)および(V)の単位を含む第2のポリマー;並びに光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)、(II)および(III):

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28

Fターム (41件)：

2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096GA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH19 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ58X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM23P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN56P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03S ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 感活性光線または感放射線樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-099215   出願人：富士フイルム株式会社
• レジスト組成物の酸発生剤用の塩
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-141239   出願人：住友化学株式会社
• 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-142061   出願人：富士フイルム株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-049939   出願人：富士フイルム株式会社
• パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-105909   出願人：富士フイルム株式会社