特許
J-GLOBAL ID：201103058716733477

パターン形成方法

発明者：
福原 敏明

福原 敏明 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-049939
公開番号（公開出願番号）：特開2011-186090
出願日： 2010年03月05日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：
【課題】 スカム及びウォーターマーク欠陥が少ないパターンの形成を可能とする。【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)と、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含んだ樹脂(C)とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が2.38質量%未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)と、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を含んだ樹脂(C)とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、 前記膜を露光することと、 前記露光された膜を、濃度が2.38質量%未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することと を含んだパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/32 ,  G03F7/004 504 ,  H01L21/30 502R
Fターム (55件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H125AF13P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN31P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03
引用特許：
審査官引用 (5件)
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