特許
J-GLOBAL ID：201103037440902469

レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
橋本 和彦

橋本 和彦 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-141239
公開番号（公開出願番号）：特開2011-026300
出願日： 2010年06月22日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】高い解像度を示すレジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、F又はペルフルオロアルキル基;X1は、2価飽和炭化水素基、該基中の-CH2-は-O-又は-CO-で置換されていてもよい;Y1は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基及び脂環式炭化水素基中の-CH2-は-O-又は-CO-で置換されていてもよい;Rp1及びRp2は、アルキル基;Rp3及びRp4は、H又はアルキル基;Xp1は、-[CH2]p1-、該基に含まれる-CH2-は、-O-、-CO-、2価脂環式炭化水素基又は2価芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該基中のHは、水酸基又は脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい;p1は1〜8の整数;Aは重合性基を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (6件)：
C07D 333/46 ,  C07C 309/17 ,  C09K 3/00 ,  C07D 307/77 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039
FI (6件)：
C07D333/46 ,  C07C309/17 ,  C09K3/00 K ,  C07D307/77 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601
Fターム (29件)：
2H125AF15P ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4C037XA02 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81 ,  4H006AB92
引用特許：
審査官引用 (24件)
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