プログラム及び決定方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-053556
公開番号（公開出願番号）：特開2012-191018
出願日： 2011年03月10日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】露光装置における露光条件の決定に有利な技術を提供する。【解決手段】露光条件に対応して投影光学系の像面に形成される像を基板に形成すべき目標パターンと比較して評価するための着目評価項目を選択する第1ステップと、前記着目評価項目とは異なる評価項目であって、前記露光条件を変更したときに前記着目評価項目の値が変化する方向と同じ方向に値が変化する評価項目を補助評価項目として選択する第2ステップと、着目評価項目と補助評価項目との関数である評価関数を設定する第3ステップと、前記評価関数の値を目標値に近づけるように、前記評価関数の値を算出する第4ステップと、第4ステップで算出された複数の前記評価関数の値から前記目標値を満たす評価関数の値に対応するパラメータの値を、前記露光条件のパラメータの値として決定する第5ステップと、を実行するプログラムを提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置における露光条件をコンピュータに決定させるプログラムであって、前記コンピュータに、前記露光条件に対応して前記投影光学系の像面に形成される像を前記基板に形成すべき目標パターンと比較して評価するための複数の評価項目から着目する評価項目である着目評価項目を選択する第1のステップと、前記複数の評価項目のうち、前記着目評価項目とは異なる評価項目であって、前記露光条件を構成するパラメータの値を変更したときに前記着目評価項目の値が変化する方向と同じ方向に値が変化する評価項目を補助評価項目として選択する第2のステップと、前記着目評価項目と前記補助評価項目との関数である評価関数を設定する第3のステップと、前記評価関数の値を目標値に近づけるように前記パラメータの値を規定回数変更し、それぞれのパラメータの値に対応して前記投影光学系の像面に形成される複数の像のそれぞれについて、前記評価関数の値を算出する第4のステップと、前記第4のステップで算出された複数の前記評価関数の値から前記目標値を満たす評価関数の値に対応するパラメータの値を、前記露光条件を構成するパラメータの値として決定する第5のステップと、を実行させることを特徴とするプログラム。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 502G , H01L21/30 516D

Fターム (6件)：

5F046DA02 , 5F046DA13 , 5F046DA14 , 5F146DA02 , 5F146DA13 , 5F146DA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光方法及び半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-210071 出願人：富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-329420 出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-016872 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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