特許
J-GLOBAL ID：200903058769178019
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-329420
公開番号（公開出願番号）：特開2008-166777
出願日： 2007年12月21日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
【課題】リソグラフィ装置の照明条件をより高い精度を有する印刷フィーチャに最適化すること。【解決手段】リソグラフィ装置の照明源を構成する方法が示される。方法は、照明源を、それぞれ1つまたは複数の照明源ポイントを含む画素グループに分割することと、パターンを露光するために、少なくとも1つの画素グループで形成された照明形状を選択することと、照明源における修正された照明形状を形成する画素グループの状態変化の結果として、リソグラフィメトリックを繰り返し計算することと、繰り返し計算に基づき照明形状を調整することとを含む。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置の照明源を構成する方法であって、
前記照明源を、照明システムの瞳面内で、それぞれ1つまたは複数の照明源ポイントを含む画素グループに分割することと、
パターンを露光するために、少なくとも1つの画素グループで形成された照明形状を選択することと、
照明源において、修正された照明形状を形成する画素グループの状態変化の結果として、リソグラフィメトリックを繰り返し計算することと、
前記繰り返し計算に基づき前記照明形状を調整することと、
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 515D
, H01L21/30 502G
, G03F7/20 521
5F046AA28
, 5F046BA04
, 5F046CB05
, 5F046CB23
, 5F046DA01
