特許
J-GLOBAL ID：201103022276228851
記録媒体及び決定方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-207153
公開番号（公開出願番号）：特開2011-095729
出願日： 2010年09月15日
公開日（公表日）： 2011年05月12日
要約：
【課題】光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体を提供する。【解決手段】S102で、目標パターンに対応する仮パターンの形状を規定するためのパターンパラメータを設定する。S104で、転写パターンを評価するための評価位置、及び、かかる評価位置での評価項目を設定する。S106で、仮照明形状を規定するための照明形状パラメータを設定する。S108乃至S116では、S102で設定したパターンパラメータとS106で設定した照明形状パラメータとからなるパラメータ空間を構成し、かかるパラメータ空間においてパターンパラメータ及び照明形状パラメータを最適化する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを備える露光装置に用いられるマスクのパターンとマスクを照明する際の有効光源分布とを決定する決定方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータで読み取り可能な記録媒体であって、
前記プログラムは、前記コンピュータに、
前記基板に形成すべきパターンに対応する仮パターンの形状を規定するための第1のパラメータを設定する第1の設定ステップと、
前記投影光学系の像面に形成される仮パターンの像を評価するための前記仮パターンの像における評価位置、及び、前記評価位置での評価項目を設定する第2の設定ステップと、
仮有効光源分布を規定するための第2のパラメータを設定する第3の設定ステップと、
前記第1のパラメータの値及び前記第2のパラメータの値を仮決定する仮決定ステップと、
前記仮決定ステップで仮決定した前記第1のパラメータの値で規定される仮パターンを、前記仮決定ステップで仮決定した前記第2のパラメータの値で規定される仮有効光源分布で照明したときに前記投影光学系の像面に形成される仮パターンの像を取得する第1の取得ステップと、
前記第1の取得ステップで取得された仮パターンの像について、前記第2の設定ステップで設定された前記評価位置での評価項目の値を取得する第2の取得ステップと、
前記第2の取得ステップで取得された前記評価位置での評価項目の値が評価基準を満たすかどうかを判定する判定ステップと、
を実行させ、
前記判定ステップで前記評価位置での評価項目の値が前記評価基準を満たすと判定された場合には、前記仮決定ステップで仮決定した前記第1のパラメータの値で規定される仮パターン及び前記仮決定ステップで仮決定した前記第2のパラメータの値で規定される仮有効光源分布のそれぞれを、マスクのパターン及び有効光源分布として決定し、
前記判定ステップで前記評価位置での評価項目の値が前記評価基準を満たさないと判定された場合には、前記仮決定ステップに戻って前記第1のパラメータの値及び前記第2のパラメータの値を再度仮決定して、前記第1の取得ステップ、前記第2の取得ステップ及び前記判定ステップを繰り返すことを特徴とする記録媒体。
IPC (2件)：
FI (6件)：
G03F1/08 A
, G03F1/08 D
, H01L21/30 515D
, H01L21/30 516Z
, H01L21/30 502Z
, H01L21/30 516A
2H095BA01
, 2H095BA02
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
, 5F046AA28
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB23
, 5F046DA13
, 5F146AA28
, 5F146BA04
, 5F146BA05
, 5F146CB43
, 5F146DA13
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
