特許
J-GLOBAL ID:201203074815356912

変位・ひずみ分布計測光学系と計測手法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-086797
公開番号(公開出願番号):特開2012-220349
出願日: 2011年04月08日
公開日(公表日): 2012年11月12日
要約:
【課題】安価で小型の変位・ひずみ分布計測光学系と計測手段を提供すること。【解決手段】複数の撮像素子を使用することで、光学素子の数を減らし、2次元の変位・ひずみ分布計測を行うことができる装置を小型にすることができる。さらに、計測対象物の近傍に鏡を設置することにより、撮像素子の数を減らし、さらに小型の装置とすることができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
複数の撮像素子を用いたデジタルホログラフィを用いた光学系であって、 1つのレーザー光源を、物体に照射する物体光と、前記複数の撮像素子へ照射する参照光に分離するための手段と、 計測対象物を置く場所に、特定のパターンを持つ基準面を解析領域に設置する手段、 とを備える変位・ひずみ分布計測光学系。
IPC (1件):
G01B 11/16
FI (1件):
G01B11/16 G
Fターム (28件):
2F065AA09 ,  2F065AA65 ,  2F065BB05 ,  2F065CC14 ,  2F065DD02 ,  2F065FF54 ,  2F065FF61 ,  2F065GG05 ,  2F065GG22 ,  2F065HH03 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL13 ,  2F065LL21 ,  2F065LL24 ,  2F065LL41 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27
引用特許:
審査官引用 (6件)
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