特許
J-GLOBAL ID:201203074856678029

ガス量制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 西川 惠清 ,  水尻 勝久 ,  竹尾 由重 ,  坂口 武 ,  北出 英敏 ,  仲石 晴樹 ,  時岡 恭平 ,  木村 豊
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-040442
公開番号(公開出願番号):特開2012-177513
出願日: 2011年02月25日
公開日(公表日): 2012年09月13日
要約:
【課題】供給されるガス種が変更され、バーナノズルが変更された場合にも、内部に備えたガスの流量制御板の交換の必要がない、幅広い範囲で発熱量が異なる複数のガスで共用できるガス流量制御装置を提供する。【解決手段】流量制御板6の一面の側にガス量調節用溝60を形成し、流量制御板6のガス量調節用溝60が形成された一面側から蓋をするスライド閉子7を備える。流量制御板6とスライド閉子7の相対的な位置を変更することで、ガス量調節用溝60におけるスライド閉子7によって蓋がされる部分の面積が変化してガス通路の通過抵抗が変化して単位時間当たりのガス流量が調節され、ガス量調節用溝60における蓋がされる部分の面積の増加に応じてガス通路の通過抵抗が連続的に増加する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
流量制御板の一面の側にガス通路となるガス量調節用溝を形成し、 前記流量制御板の前記ガス量調節用溝が形成された前記一面側から蓋をする閉子を備え、 前記流量制御板と前記閉子の相対位置を変更することで、前記ガス量調節用溝における前記閉子によって蓋がされる部分の面積が変化して前記ガス通路の通過抵抗が変化して単位時間当たりのガス流量が調節され、 前記蓋がされる部分の面積の増加に応じて前記通過抵抗が連続的に増加することを特徴とするガス機器用のガス量制御装置。
IPC (2件):
F23K 5/00 ,  F23N 1/00
FI (2件):
F23K5/00 301C ,  F23N1/00 102Z
Fターム (4件):
3K068AA01 ,  3K068BA03 ,  3K068BB01 ,  3K068BB12
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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