特許
J-GLOBAL ID：201203079369806072

形状測定方法及び形状測定装置

発明者：
後藤 智徳

後藤 智徳 について

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宮倉 常太

宮倉 常太 について

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浅野 秀光

浅野 秀光 について

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佐伯 剛

佐伯 剛 について


出願人/特許権者：
株式会社ミツトヨ

株式会社ミツトヨ について


代理人 (1件)： 伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-182085
公開番号（公開出願番号）：特開2012-042260
出願日： 2010年08月17日
公開日（公表日）： 2012年03月01日
要約：
【課題】ダイナミックレンジの広いZ方向範囲の高速な測定及びこれによる測定時間の短縮。【解決手段】光源から被測定対象までの第1光路長と光源から参照面までの第2光路長との光路長差によって変化する被測定対象の干渉光強度分布画像を、撮像手段で撮像する第1の工程と、第1光路長と第2光路長の光路長差を光路長差変更手段で全走査区間に亘って変化させながら、全走査区間内に部分的に設定された複数の測定区間の干渉光強度分布画像を画像記憶手段に順次記憶する第2の工程と、画像記憶手段に記憶された各測定区間の干渉光強度分布画像の各測定位置における光路長差の変化に伴う干渉光強度の変化を示す干渉光強度列から、全走査区間における干渉光強度列のピーク位置を求め、このピーク位置から被測定対象の各測定位置における光軸方向の位置を求める第3の工程とを有する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
広帯域スペクトルを有する光源からの光を被測定対象と参照面とに導くと共に、前記被測定対象及び参照面から反射された光を合成し、前記光源から前記被測定対象までの第1光路長と前記光源から前記参照面までの第2光路長との光路長差によって変化する前記被測定対象の測定面内の各測定位置に対応した干渉光強度を示す干渉光強度分布画像を、撮像手段で撮像する第1の工程と、 前記第1光路長と第2光路長の光路長差を光路長差変更手段で全走査区間に亘って変化させながら、前記全走査区間内に部分的に設定された複数の測定区間の干渉光強度分布画像を画像記憶手段に順次記憶する第2の工程と、 前記画像記憶手段に記憶された前記各測定区間の干渉光強度分布画像の各測定位置における前記光路長差の変化に伴う干渉光強度の変化を示す干渉光強度列から、前記全走査区間における前記干渉光強度列のピーク位置を求め、このピーク位置から前記被測定対象の各測定位置における光軸方向の位置を求める第3の工程と を有する事を特徴とする形状測定方法。
IPC (1件)：
G01B 11/24
FI (2件)：
G01B11/24 D ,  G01B11/24 K
Fターム (23件)：
2F065AA06 ,  2F065AA53 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF52 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG07 ,  2F065GG24 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ43 ,  2F065QQ44
引用特許：
審査官引用 (4件)
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