特許
J-GLOBAL ID：201203079846731349

真空処理装置、蒸着装置、プラズマCVD装置及び有機蒸着方法

発明者：
楊 一新

楊 一新 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (2件)： 阿部 英樹 ,  石島 茂男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-227006
公開番号（公開出願番号）：特開2012-082445
出願日： 2010年10月06日
公開日（公表日）： 2012年04月26日
要約：
【課題】種々の基板5の表面に分布が均一の成膜等の真空処理を行うことができる技術を提供する。 【解決手段】基板5が配置される真空槽2と、真空槽2の外部に設けられ処理ガスを供給する処理ガス供給源7と、配管を用いて構成され、処理ガス供給源7から供給された処理ガスを基板5に向って放出する蒸気放出器10とを備える。蒸気放出器10は、有機材料の蒸気の導入側から放出側に向って4n-1(nは自然数)の等比級数で段階的に分岐する第1〜第3の分岐配管ユニット11〜13を有する分岐配管群110〜130を備え、最終段の第3の分岐配管群130における分岐配管ユニット13のガス放出側端部に、処理ガスを放出する蒸気放出口14a〜14dがそれぞれ設けられ、これら複数のガス放出口14a〜14dから基板5に向って有機材料の蒸気を放出するように構成されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
処理対象物が配置される真空槽と、 前記真空槽の外部に設けられ処理ガスを供給する処理ガス供給源と、 配管を用いて構成され、前記処理ガス供給源から供給された処理ガスを前記処理対象物に向って放出するガス放出器とを備え、 前記ガス放出器は、前記処理ガスの導入側から放出側に向って4n-1(nは自然数)の等比級数で段階的に分岐する分岐配管ユニットを有する複数の分岐配管群を備え、当該分岐配管群のうち最終段の分岐配管群における分岐配管ユニットのガス放出側端部に、前記処理ガスを放出するガス放出口がそれぞれ設けられ、これら複数のガス放出口から前記処理対象物に向って当該処理ガスを放出するように構成されている真空処理装置。
IPC (2件)：
C23C 16/455 ,  C23C 14/24
FI (2件)：
C23C16/455 ,  C23C14/24 A
Fターム (13件)：
4K029AA21 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB12 ,  4K030CA11 ,  4K030CA17 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA03 ,  4K030KA02 ,  4K030KA17
引用特許：
審査官引用 (4件)
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