特許
J-GLOBAL ID：201203080938799770

微細構造体、その製造方法および撮像装置

発明者：
手島 隆行

手島 隆行 について

, 
▲瀬▼戸本 豊

▲瀬▼戸本 豊 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-030010
公開番号（公開出願番号）：特開2012-168397
出願日： 2011年02月15日
公開日（公表日）： 2012年09月06日
要約：
【課題】ピッチズレが抑制された狭ピッチで高アスペクト比な微細構造体の製造方法を提供する。【解決手段】シリコンをエッチングして形成された凸部の少なくとも頂上部に第1の絶縁層が設けられ、基板凹部に、下記の化学式(1)および化学式(2)(R1、R2、R3は、アルキル基)で表される基を含むオルガノポリシロキサンを有する第2の絶縁層を形成して凹部の底部に金属を有するシード層を形成し、前記凹部に電気めっきにより金属を充填してめっき層を形成する微細構造体の製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
微細構造体の製造方法であって、シリコンをエッチングして形成された凹部および凸部のうち前記凸部の少なくとも頂上部に第1の絶縁層が設けられた基板を用意する工程と、前記凹部の少なくとも側壁及び底部に、下記の化学式(1)および化学式(2)
IPC (4件)：
G02B 5/18 ,  G01N 23/04 ,  G01N 23/20 ,  G01T 7/00
FI (4件)：
G02B5/18 ,  G01N23/04 ,  G01N23/20 ,  G01T7/00 B
Fターム (15件)：
2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001DA02 ,  2G001GA12 ,  2G001HA13 ,  2G088JJ15 ,  2G088JJ18 ,  2G088JJ21 ,  2H249AA03 ,  2H249AA13 ,  2H249AA37 ,  2H249AA46 ,  2H249AA58
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM