特許
J-GLOBAL ID：201203083464571322

光照射装置および光照射方法

発明者：
仲田 重範

仲田 重範 について


出願人/特許権者：
ウシオ電機株式会社

ウシオ電機株式会社 について


代理人 (1件)： 大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-009852
公開番号（公開出願番号）：特開2012-093692
出願日： 2011年01月20日
公開日（公表日）： 2012年05月17日
要約：
【課題】 所期の光学的異方性を有するストライプ状のパターンを確実に形成することのできる光照射装置および光照射方法を提供すること。【解決手段】 この光照射装置は、互いに異なる条件で偏光光を一方向に伸びるように照射する複数の偏光光照射部と、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が一方向に交互に並んで配置されてなる、偏光光照射部の各々に対応する複数種のマスクパターンを有するマスクとを備えてなり、各々の偏光光照射部は、光出射部と、光出射部とマスクとの間の光路上に配置された偏光素子とにより構成されており、マスクにおいては、一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける透光部が、被照射物の搬送方向において他の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける遮光部と相補的に並ぶ状態で、位置された構成とされている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
互いに異なる条件で偏光光を一方向に伸びるように照射する複数の偏光光照射部と、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並ぶよう配置されて形成されてなる、前記複数の偏光光照射部の各々に対応するマスクパターンを有するマスクとを備えてなり、 前記偏光光照射部の各々は、放電ランプ、および、当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子を有する光出射部と、前記光出射部と前記マスクとの間の光路上に配置された偏光素子とにより構成されており、 前記マスクにおいては、各々の偏光光照射部による光照射処理領域において前記一方向に垂直な方向に移動されるよう搬送される被照射物の搬送方向において、一の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける前記透光部が、他の偏光光照射部に係るマスクパターンにおける前記遮光部と相補的に並ぶ状態で、位置されていることを特徴とする光照射装置。
IPC (4件)：
G02F 1/133 ,  G02B 5/30 ,  G02B 19/00 ,  G03B 35/26
FI (5件)：
G02F1/1337 505 ,  G02B5/30 ,  G02B19/00 ,  G03B35/26 ,  G02F1/13363
Fターム (33件)：
2H052BA03 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H059AA26 ,  2H059AA35 ,  2H059AB13 ,  2H090HC11 ,  2H090HC13 ,  2H090HC18 ,  2H090HD14 ,  2H090MA02 ,  2H090MA15 ,  2H090MB12 ,  2H090MB14 ,  2H149AA20 ,  2H149AA21 ,  2H149AB02 ,  2H149BA02 ,  2H149BA04 ,  2H149BA23 ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Y ,  2H191FA30Z ,  2H191FB05 ,  2H191FC41 ,  2H191FD04 ,  2H191GA08 ,  2H191LA13 ,  2H191MA01 ,  2H191PA50 ,  2H191PA59 ,  2H191PA60 ,  2H191PA87
引用特許：
審査官引用 (4件)
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