特許
J-GLOBAL ID:201003061910646961

配向膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小野 由己男 ,  稲積 朋子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-173124
公開番号(公開出願番号):特開2010-039485
出願日: 2009年07月24日
公開日(公表日): 2010年02月18日
要約:
【課題】配向膜形成方法が開示される。【解決手段】配向膜形成方法、これを用いた液晶表示装置の製造方法、及び配向膜形成装置において、複数のサブ画素領域に区分された単位画素領域が定義されたベース基板と、ベース基板上に形成された光反応性高分子膜を有する基板を提供する。単位画素領域の第1露光領域に基板と第1方向に第1傾斜角をなして偏光された第1光を照射して光反応性高分子膜を第1光配向させる。第1光配向させることと実質的に同時に他の単位画素領域の第2露光領域に基板と第2方向に第2傾斜角をなして偏光された第2光を照射して光反応性高分子膜を第2光配向させる。マルチドメインを有する配向膜形成工程数が減少され生産性が向上される。【選択図】図3
請求項(抜粋):
複数のサブ画素領域に区分された単位画素領域が定義されたベース基板と、前記ベース基板上に形成された光反応性高分子膜を有する基板を提供する段階と、 第1単位画素領域の第1露光領域に、第1方向において前記基板と第1傾斜角をなす第1光を照射して前記光反応性高分子膜を第1光配向させる段階と、 前記第1光配向させることと実質的に同時に第2単位画素領域の第2露光領域に、第2方向において前記基板と第2傾斜角をなす第2光を照射して前記光反応性高分子膜を第2光配向させる段階と、を含む配向膜形成方法。
IPC (1件):
G02F 1/133
FI (1件):
G02F1/1337
Fターム (6件):
2H090HB07Y ,  2H090HC13 ,  2H090HC18 ,  2H090LA09 ,  2H090LA15 ,  2H090LA20
引用特許:
審査官引用 (6件)
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