特許
J-GLOBAL ID:201203084135949892
パターン形成装置およびパターン形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
, 三橋 史生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-077923
公開番号(公開出願番号):特開2012-210594
出願日: 2011年03月31日
公開日(公表日): 2012年11月01日
要約:
【課題】撥液剤により構成された膜にアライメントマークを形成することができるパターン形成装置およびパターン形成方法を提供する。【解決手段】基板上に所定のパターンを形成するパターン形成装置である。基板上に形成された、撥液剤により構成された膜に、アライメントマークとなるマークパターンを露光するマーク露光部と、マークパターンの露光領域に可視化インクを印刷し、アライメントマークを形成するマーク印刷部と、さらに、アライメントマークを検出し、アライメントマークの位置情報を得るマーク検出部と、アライメントマークの位置情報に基づいて膜に形成するパターンの位置を変えるか、または基板の位置を変えてパターンを形成する位置を調整する調整部と、膜にパターンを形成する画像形成部とを有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板上に所定のパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板上に形成された、撥液剤により構成された膜に、アライメントマークとなるマークパターンを露光するマーク露光部と、
前記マークパターンの露光領域に可視化インクを印刷し、前記アライメントマークを形成するマーク印刷部とを有することを特徴とするパターン形成装置。
IPC (4件):
B05C 9/10
, B05D 7/24
, B05D 5/00
, B05C 5/00
FI (4件):
B05C9/10
, B05D7/24 301M
, B05D5/00 Z
, B05C5/00 101
Fターム (18件):
4D075AC07
, 4D075AC41
, 4D075AC88
, 4D075CA36
, 4D075CA37
, 4D075DC24
, 4D075EA06
, 4D075EA33
, 4F041AA02
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA21
, 4F042AA02
, 4F042AA06
, 4F042BA08
, 4F042DA00
, 4F042DF15
, 4F042ED03
引用特許:
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