特許

J-GLOBAL ID：201203086508768284

インプリント・リソグラフィ装置、および方法

発明者： ガナパジスブラマニアン,マハデヴァン ,  チョイ,ビュン-ジン ,  マイスル,マリオ・ヨハネス
出願人/特許権者： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-533171
公開番号（公開出願番号）：特表2012-507138
出願日： 2009年10月21日
公開日（公表日）： 2012年03月22日
要約：

基板、および/またはテンプレートの制御された変形を使って基板にインプリントするための装置、方法、および工程。基板、および/またはテンプレートは、インプリント・リソグラフィ工程の間、シングルウェーブ形状、またはダブルウェーブ形状で位置させることができる。

請求項（抜粋）：

基板を支持するように構成された真空チャックを備え、 前記真空チャックには、 前記基板の外径を支持するように構成された、第一の高さを有する外側ランドと、 前記基板の内径を支持するように構成された、第二の高さを有する内側ランドと が備えられ、 前記第一の高さと前記第二の高さは、シングルウェーブ形状の基板を形成するように決定されている、 ことを特徴とする装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

Fターム (15件)：

4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH38 ,  4F209AH79 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PJ01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN07 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ14 ,  5F146AA31 ,  5F146AA34

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開昭61-094322
  
• 特開昭61-094323
  
• 基板処理装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-195205   出願人：株式会社小松製作所
• 特開昭63-283022
  
• 特表平3-504285
  
• 基板の形状を調整するチャック・システムと方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-552099   出願人：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
• 薄板収納容器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-102759   出願人：ミライアル株式会社