特許
J-GLOBAL ID：201203087899711210
画像2値化方法および画像2値化装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中辻 史郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-209128
公開番号（公開出願番号）：特開2012-065230
出願日： 2010年09月17日
公開日（公表日）： 2012年03月29日
要約：
【課題】入力画像の罫線や文字あるいは背景に多様な濃淡差がある場合であっても適切な2値画像を得ること。【解決手段】マスク画像生成部が、入力画像の微分値の絶対値であるエッジ強度に基づいて2値のマスク画像を生成し、型抜き部が、マスク画像の有効画素に対応する画素を入力画像から抽出することによって型抜き画像を生成し、ラベリング部が、マスク画像の有効画素を連続領域ごとに区分けし、閾値決定部が、連続領域に対応する型抜き画像の個別領域ごとに、かかる個別領域の輝度分布に基づいて2値化閾値を決定し、2値化処理部が、個別領域ごとに、2値化閾値を用いてかかる個別領域を2値化するように画像2値化装置を構成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
入力画像を2値化する画像2値化方法であって、
前記入力画像の微分値の絶対値であるエッジ強度を求めるとともに、当該エッジ強度が所定のエッジ強度閾値以上の画素を有効画素とし前記エッジ強度閾値未満の画素を無効画素とした2値のマスク画像を生成するマスク画像生成工程と、
前記マスク画像の有効画素に対応する画素を前記入力画像から抽出することによって型抜き画像を生成する型抜き工程と、
前記マスク画像の有効画素を連続領域ごとに区分けする区分け工程と、
前記連続領域に対応する前記型抜き画像の個別領域ごとに、当該個別領域の輝度分布に基づいて2値化閾値を決定する閾値決定工程と、
前記個別領域ごとに、前記閾値決定工程において決定した2値化閾値を用いて当該個別領域に含まれる画素を2値化する2値化工程と
を含んだことを特徴とする画像2値化方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H04N1/40 103A
, G06T5/00 200Z
5B057AA11
, 5B057BA12
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB06
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CE12
, 5B057CH18
, 5B057DA08
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC16
, 5B057DC30
, 5B057DC36
, 5C077LL19
, 5C077MP06
, 5C077MP07
, 5C077PP27
, 5C077PP47
, 5C077PP48
, 5C077PQ08
, 5C077RR02
, 5C077RR15
