特許
J-GLOBAL ID：201203093111535670
レジスト組成物、レジストパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-068798
公開番号（公開出願番号）：特開2012-203261
出願日： 2011年03月25日
公開日（公表日）： 2012年10月22日
要約：
【課題】リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)または下記一般式(a0-2)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含有し、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b0-1)または(b0-2)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)または下記一般式(a0-2)で表される構成単位(a0)を有する樹脂成分(A1)を含有し、
前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b0-1)または(b0-2)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, C08F 20/38
, C09K 3/00
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, C08F20/38
, C09K3/00 K
2H125AF16P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH05
, 2H125AH14
, 2H125AH15
, 2H125AH16
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AJ12X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ76X
, 2H125AL03
, 2H125AL22
, 2H125AN02P
, 2H125AN19P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN54P
, 2H125AN63P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB16
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA04R
, 4J100BA11Q
, 4J100BA15Q
, 4J100BA40Q
, 4J100BA59P
, 4J100BB18P
, 4J100BC03R
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC49R
, 4J100BC53Q
, 4J100BC84Q
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
