特許
J-GLOBAL ID：201003034752281058

レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法

発明者：
内海 義之

内海 義之 について

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松沢 賢介

松沢 賢介 について

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清水 宏明

清水 宏明 について

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中村 剛

中村 剛 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-295385
公開番号（公開出願番号）：特開2010-122421
出願日： 2008年11月19日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分(F)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(Ia)で表されるアニオン部を有する酸発生剤(B1)を有し、前記光塩基発生剤成分(F)が下記一般式(f1)で表される化合物からなる光塩基発生剤(F1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。 [化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分(F)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(Ia)で表されるアニオン部を有する酸発生剤(B1)を有し、
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/004 503B ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/10 ,  H01L21/30 502R
Fターム (50件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB48 ,  4H006AB76 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40R ,  4J100BB18R ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC12P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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