特許

J-GLOBAL ID：200903055479050192

レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 岩下 淳 ,  松丸 省吾 ,  阿部 翔
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-139709
公開番号（公開出願番号）：特開2009-288441
出願日： 2008年05月28日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：

【課題】リソグラフィー用途に使用可能な新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/38 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/038 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/38 ,  H01L21/30 502R

Fターム (45件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE07 ,  2H025CB14 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL16P ,  4J100AL26P ,  4J100AL26Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA15Q ,  4J100BA55P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC15R ,  4J100BC52R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA46

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-201310   出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (4件)

• α-置換アクリル酸エステル誘導体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-140023   出願人：株式会社クラレ
• ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-082225   出願人：富士フイルム株式会社
• ネガ型感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-234136   出願人：JSR株式会社
• スルホンアミド構造を有する重合性エステル化合物、その重合体、レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-168601   出願人：信越化学工業株式会社