特許

J-GLOBAL ID：201203094766507340

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法

発明者： 川端 健志 ,  高橋 秀知 ,  土村 智孝 ,  平野 修史 ,  椿 英明
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-225993
公開番号（公開出願番号）：特開2012-078723
出願日： 2010年10月05日
公開日（公表日）： 2012年04月19日
要約：

【課題】 高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位(A)と、1級又は2級の水酸基を備えた繰り返し単位(C)とを含んだ樹脂(P)を含有している。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位(A)と、1級又は2級の水酸基を備えた繰り返し単位(C)とを含んだ樹脂(P)を含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/10 ,  C08F 212/02

FI (5件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/10 ,  C08F212/02

Fターム (99件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF27P ,  2H125AF34P ,  2H125AF36P ,  2H125AF70P ,  2H125AH03 ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH07 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ08Y ,  2H125AJ12Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ16Y ,  2H125AJ42X ,  2H125AJ43X ,  2H125AJ43Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ52 ,  2H125AJ54Y ,  2H125AJ59X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ68Y ,  2H125AJ69Y ,  2H125AJ70Y ,  2H125AJ74Y ,  2H125AJ80Y ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125AN67P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA56R ,  4J100BA58R ,  4J100BB07Q ,  4J100BB12R ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BB18R ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC49Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA37

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 重合性アニオンを有する含フッ素スルホン塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-268476   出願人：セントラル硝子株式会社
• 感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよび液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-075405   出願人：JSR株式会社
• ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-151013   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-016978   出願人：富士写真フイルム株式会社