特許
J-GLOBAL ID：201203099545179587

排気ガスの固定化処理法、及びその処理装置

発明者：
佐藤哲也

佐藤哲也 について


出願人/特許権者：
国立大学法人山梨大学

国立大学法人山梨大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-042049
公開番号（公開出願番号）：特開2012-179503
出願日： 2011年02月28日
公開日（公表日）： 2012年09月20日
要約：
【課題】低温反応を利用した薄膜堆積法は、付加価値の高いフルオロカーボン薄膜や炭素膜に変換し、リサイクルすることを可能にすることに加え、排ガスのリユースするための有効利用方法及び装置を提供する。【解決手段】極低温に冷却された基材上に、フッ素含有排ガスを噴霧し、フッ素含有排ガスのみを凝縮薄膜として堆積させる工程と、該凝縮薄膜に雰囲気ガスとともに電子またはイオンまたは準安定励起種またはラジカルを照射することにより該フッ素含有排ガスを分解するとともに重合膜として固定化する工程と、固定化したフッ素含有重合膜を回収する工程を、含むフッ素含有排ガスの固定化方法。 【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
極低温に冷却された基材上に、フッ素含有排ガスを噴霧し、フッ素含有排ガスのみを凝縮薄膜として堆積させる工程と、 該凝縮薄膜に雰囲気ガスとともに電子またはイオンまたは準安定励起種またはラジカルを照射することにより該フッ素含有排ガスを分解するとともに重合膜として固定化する工程と、 固定化したフッ素含有重合膜を回収する工程を、 含むことを特徴とするフッ素含有排ガスの固定化方法
IPC (2件)：
B01D 53/68 ,  B01J 19/08
FI (2件)：
B01D53/34 134C ,  B01J19/08 G
Fターム (17件)：
4D002AA22 ,  4D002AC07 ,  4D002AC10 ,  4D002BA13 ,  4D002CA20 ,  4D002HA10 ,  4G075AA24 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA10 ,  4G075BB10 ,  4G075CA03 ,  4G075CA15 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB31
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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