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J-GLOBAL ID：201302240574278584   整理番号：13A1844302

有限垂直円柱まわりの膜沸騰伝熱に及ぼす端面と側面で構成されるエッジの影響

著者 (6件)： 桃木悟 (長崎大) ,  茂地徹 (長崎大) ,  山田たかし (長崎大) ,  半田修也 (長崎大 大学院) ,  山口朝彦 (長崎大) ,  豊田香 (舞鶴工高専)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 50th  ページ： ROMBUNNO.E132  発行年： 2013年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 端面と側面で構成されるエッジの角度が有限垂直円柱まわりの膜沸騰熱伝達に及ぼす影響を調べるために,軸方向長さ48mmの垂直円柱を用いて,大気圧の飽和およびサブクール水に対して焼き入れ実験を行った。膜沸騰熱伝達率は底面直径が上面直径より小さい垂直円錐台の場合に高い値が得られ,膜沸騰下限界点の温度は水のサブクール度が大きい(20K)垂直円柱の場合に最も高くなる結果を得た。(著者抄録)

シソーラス用語： *膜沸騰 ,  *沸騰伝熱 ,  *円柱 ,  垂直型 ,  物体の周りの流れ ,  焼入 ,  研究 ,  水冷 ,  円錐シェル ,  端部 ,  形状効果 ,  垂直円柱 ,  *熱伝達 ,  *柱 ,  *構造要素
準シソーラス用語： 実験研究

分類 (2件)： 相変化を伴う熱伝達  (PA02040V) ,  物体の周りの流れ  (BC02040N)

タイトルに関連する用語 (4件)： 垂直円柱 ,  まわり ,  沸騰伝熱 ,  エッジ