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J-GLOBAL ID：201302252137890279   整理番号：13A0081296

Bi,Pb-2223薄膜の熱処理中の微細組織形成過程

Microstructural Evolution of Bi,Pb-2223 Films During Heat-Treatment

著者 (8件)： 梶原貴人 (九大) ,  嶋田雄介 (九大) ,  波多聰 (九大) ,  池田賢一 (九大) ,  中島英治 (九大) ,  土井俊哉 (京大) ,  松本明善 (物質・材料研究機構) ,  北口仁 (物質・材料研究機構)
資料名： 電気学会金属・セラミックス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： MC-12  号： 1-13  ページ： 43-48  発行年： 2012年12月06日 
JST資料番号： F0574C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： スパッタリング法でBi,Pb-2223超伝導薄膜を作製し,熱処理中の微細組織形成過程を調べた。SrTiO₃単結晶基板上に前駆体薄膜を形成し,858または866°Cで3時間熱処理した。試料表面の観察にはSEMを用い,断面の観察にはSTEMを用いた。成膜したままの試料を,Bi,Pb-2223焼結体と共に封入して熱処理すると,膜中にPbが取り込まれBi,Pb-2223を主相とする薄膜が得られた。包晶反応開始温度(845°C)以上で熱処理することで,層状構造で平滑な膜が液相から生成した。液相からの膜成長過程で,Bi,Pb-2201相や非晶質相などの不純物が生成した。

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,  カルシウム化合物 ,  ストロンチウム化合物 ,  銅化合物 ,  酸化物 ,  *高温超伝導体 ,  *超伝導薄膜 ,  スパッタリング ,  *微細構造 ,  前駆体 ,  焼なまし ,  包晶反応 ,  加熱温度 ,  液相 ,  薄膜成長 ,  不純物

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (6件)：

• [1] . K. Hayashi : “Recent Developments of Bismuth Based High Temperature Superconducting Wire and Their Applications”, J. Japan Inst. Metals, Vol. 74, No. 7, pp 394-403(2010)(inJapanese) 林和彦 :「ビスマス系超伝導線材と応用開発の最前線」, 日本金属学会誌 74, 1, pp394-403(2010)
• [2]. K. Kishida, and N.D. Browning: “Direct atomic scale imaging of grain boundaries and defects in Bi-2223/Ag high-T_csuperconducting tapes”, Physica C, No 351, 281-294(2001)
• [3]. P. Alexander, P. Majewski, S. T. Eduardo, R. Fernando, and A. Fritz : “Phase Relations Study on the Melting and Crystallization Regions of the Bi-2223 High Temperature Superconductor”, Materials Research, Vol. 7, No. 3, 393-408(2004)
• [4]. Y. Matsui, H. Maeda, Y. Tanaka, and S. Horiuchi:“High-resolution Electron Microscopy of Modulated Structure in the New High-T_c Superconductors of the Bi-Sr-Ca-Cu-O System”, Jpn. J. Appl. Phys, Vol. 27, 361-365(1989)
• [5]. P. Majewski : “Materials aspects of the high-temperature superconductors in the system Bi₂O₃SrO-CaO-Cu0”, J. Mater. Res, Vol. 15, No. 4, 854-870(2000-4)

タイトルに関連する用語 (6件)： Bi ,  Pb ,  薄膜 ,  熱処理 ,  微細組織 ,  形成過程