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J-GLOBAL ID:201302263601775749   整理番号:13A1793609

薄膜形状記憶合金のハイスループット評価法

High-Throughput Characterization of Thin Film Shape Memory Alloys
著者 (4件):
資料名:
巻: 133  号:ページ: 348-353 (J-STAGE)  発行年: 2013年 
JST資料番号: L3098A  ISSN: 1341-8939  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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コンビナトリアル手法による薄膜形状記憶合金の探索のため,マルテンサイト変態温度および逆変態温度のハイスループット評価法を示した。これまで,薄膜形状記憶合金のハイスループット評価法の主流は,各サンプルの電気抵抗率の変化をモニタリングする方法であった。しかしながら,その方法では,サンプル数と同数の四探針プローブが必要であり,接触式であるため,大がかりな装置構成となった。そこで,本研究では,非接触で簡便な構成でハイスループット評価を実現することを目指した。実験の結果,サーモグラフィーを利用することで,非接触で薄膜形状記憶合金のサンプル(TiNiPd)の多点のマルテンサイト変態および逆変態を検出できることがわかった。また,本手法を用いた場合,基板上に集積された1mm角の薄膜形状記憶合金でもその変態を検出することが可能になった。本手法によりマルテンサイト変態温度および逆変態温度を評価したところ,従来の方法との差異も5K程度であった。さらに,組成傾斜を有する集積化薄膜サンプルで実際にハイスループット評価を行った結果,妥当な熱特性の傾向を得ることに成功した。
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