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J-GLOBAL ID：201302286405958320   整理番号：13A0676503

ナノフォトニックアレイの作製のための回折支援極端紫外線近接リソグラフィー

Diffraction-assisted extreme ultraviolet proximity lithography for fabrication of nanophotonic arrays

著者 (8件)： DANYLYUK Serhiy (Chair for the Technol. of Optical Systems, RWTH Aachen Univ. and JARA-Fundamentals of Future Information Technol. ...) ,  KIM Hyun-su (Chair for the Technol. of Optical Systems, RWTH Aachen Univ. and JARA-Fundamentals of Future Information Technol. ...) ,  BROSE Sascha (Chair for the Technol. of Optical Systems, RWTH Aachen Univ. and JARA-Fundamentals of Future Information Technol. ...) ,  DITTBERNER Carsten (Chair for the Technol. of Optical Systems, RWTH Aachen Univ. and JARA-Fundamentals of Future Information Technol. ...) ,  LOOSEN Peter (Chair for the Technol. of Optical Systems, RWTH Aachen Univ. and JARA-Fundamentals of Future Information Technol. ...) ,  TAUBNER Thomas (Inst. of Physics (IA) and JARA-Fundamentals of Future Information Technologies RWTH Aachen Univ., 52056 Aachen, DEU) ,  BERGMANN Klaus (Fraunhofer Inst. for Laser Technol., Steinbachstrasse 15, 52074 Aachen, DEU) ,  JUSCHKIN Larissa (Inst. of Physics, EUV Sources and Applications and JARA-Fundamentals of Future Information Technologies RWTH Aachen ...)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 31  号： 2  ページ： 021602-021602-6  発行年： 2013年03月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本報では,極端紫外線(EUV)放射による近接リソグラフィーの可能性と限界を理論と実験で探求した。Xe/Ar放電プラズマEUV源からの10.88nmの波長をもつ部分コヒーレントEUV放射を利用して,各種ナノアンテナアレイの近接効果パターン形成を行った。実験結果を,数値スカラー回折シミュレーションの結果と比較し,Fresnel回折モードにおける近接プリンティングが,低分解能マスクでも高分解能特徴の作製を可能にすることを示し,レジストにおけるサブ30nmエッジ分解能を実証することに成功した。この方法の可能性を,円形及び三角形開口及び蝶ネクタイ型アンテナパターンを通してのパターン形成のシミュレーションにより追及した。結果は,近接効果ギャップの正確な制御及びシミュレーション支援マスク設計最適化と共に照射線量は,広範な高分解能構造を比較的単純な透過マスクを通してプリントすることを可能にした。この方法は,サブマイクロメータサイズナノフォトニックアレイの高性能作製にとくに適していた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *極端紫外線 ,  プラズマ ,  *アレイアンテナ ,  *ナノ構造 ,  シミュレーション ,  *フォトリソグラフィー ,  Fresnel回折 ,  印刷 ,  パターン形成 ,  発光
準シソーラス用語： アンテナアレイ ,  *ナノアレイ ,  *極端紫外線リソグラフィー ,  *近接リソグラフィー ,  数値シミュレーション ,  プラズマ発光

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  アンテナ  (ND06000M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 作製 ,  回折 ,  支援 ,  極端紫外線 ,  リソグラフィー