文献
J-GLOBAL ID:201302289579145514   整理番号:13A1882899

デバイスのリンギング周波数と伝導ノイズに関する一考察

A Consideration about the Ringing Frequency of the Devices and Conductive Noise
著者 (7件):
資料名:
巻: EDD-13  号: 46-61  ページ: 75-79  発行年: 2013年10月21日 
JST資料番号: Z0910A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
SiC MOSFETやGaN FETなどの次世代パワーデバイスでは,その適用により,di/dtやdv/dtが高くなり,それに伴う電圧,電流のリンギングやサージ電圧が発生して,他の機器に誤作動を生じさせる怖れがある。本論では,先ずMOSFET,IGBT,SiC(Rohm),SiC(Cree)に対するダブルパルス測定を行い,各デバイスの特性を調べるとともに,伝導ノイズも測定した。その結果,伝導ノイズの最も高くなる周波数と実機から得られたリンギングの周波数がほぼ一致し,伝導ノイズのノイズレベルが最も発生し易い周波数は,リンギングの周波数に依存することが分かった。また,SiC MOSFETは,Si系デバイスにおいては確認されていない伝導ノイズを発生するため,ダブルパルス測定結果を用いて考察した結果,このノイズは,SiC MOSFET内部の寄生インダクタンス成分などに起因していることが推定された。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 
引用文献 (5件):
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る